中国光刻机

哪些半导体公司用ASML光刻机很多~我知道先进半导体,新进半导体,华虹,中芯国际都用,其他的场没有去看过就不清楚了~

光刻机与刻录机一样吗?不一样,相差太大了,光刻是半导体集成电路制作工艺中的关键的一步,而光刻机正是用来光刻的,刻录机是电脑中用来刻录光盘的.

光刻是什么意思?我来打个比方吧：比如说你看集成电路板,上面不是有一条一条金属线么?那个线不是画上去的,是整个刷一层铜到塑料板上,然后上面刷一层蜡,然后你用刀子把没有导线的部分的蜡“刻”下去,然后把这块板子扔到腐蚀液里,没有蜡覆盖的地方就会被

光强计和照度计是一种仪器吗?能不能推荐几款光强计半导体行业光刻机用的紫外线灯强度要用紫外线照度计测量,探伤用的紫外线灯为长波紫外线灯,你搜索一下Luyor－340,这款能够适合你这个涉及的东西多了呀,如果是北京北方

打印机的光刻工艺发错了地方：））我把你的问题看错了,重新回答你：一,喷墨打印头的光刻技术,打印头是一种特殊的材质,采用激光雕刻的技术,加工出打印喷孔,打印头的精细程度更好.更加省墨.二,如果你问的还不是这个问题,那就是现在有一款打印机是和光

光刻胶怎么清洁用专门的清洗剂?

光刻机的价格光刻机价格差异为何如此之大,有的如ALML的产品价值数千万美元,有的产品在淘宝上几十万就能买到,它们之间除了性能如线宽,象场尺寸,有无更多、更本质的差异?当然不同,激光源,激光透镜,激光光路是决定价格的主要因素.ASML是世界上

什么是光刻胶以及光刻胶的种类光刻胶是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化.一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态.1、光刻胶的作用：a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中；b、在后续工序中,保护下

光刻胶匀胶后为什么要去除掉边缘的光刻胶可能是匀胶后边缘的光刻胶有堆胶现象,如果采用的是接触式曝光,那么掩模板和晶片之间就会有间隙,造成曝光出现虚影,因此要去除掉边缘的光刻胶.

半导体光刻中的pitch是什么意思pitch=line+spaceminmumlineorspacedeterminesphoto&etch'scapability.Differentpitch,photocharacteristicisd

光刻胶中的感光剂是什么?各种光刻胶都不一样的这个要看胶的说明书吧一般来说,光刻胶=反应物质+增感剂+有机溶剂反应物质有PVAC等等增感剂有5-硝基苊等等有机溶剂有环己酮等等不同的光刻胶有不同的感光成分,193、248、365、436根据不同

光刻胶~光刻胶的概念是什么?光刻胶的概念是什么?光刻胶photoresist又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体.感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理

荷兰很小面积4万平方公里人口1600万为何这么发达?制造cpu用的光刻机.荷兰asml公司占据全球市场份额百分之五十以上.剩下的就是日本的尼康佳能和一家美国的小公司.推荐你去看大国崛起荷兰篇荷兰国家小,封建统治力量相对薄弱,资产阶级革命最早

有没有光刻胶抗强碱腐蚀德国ALLRESIST的XAR-P5900/4能够耐极强碱,可巨贵无比.氟化氢水溶液可以腐蚀玻璃

在光刻工艺中的图形分辨率是什么意思是光刻激光可刻蚀出来的图形最小距离.小于这个距离,就不能清晰的得到你想要的图像.其与光源波长及综合因子k1(基本是常数)正比,与镜头数值孔径的平方成反比.

简述光刻的工艺过程（步骤）1.wafer表面处理；2.旋涂光刻胶（包括抗反射层）3.前烘；4.曝光；5.后烘；6.显影,有的需要在显影前进行坚膜；7.刻蚀

试述光刻加工的主要阶段涂胶,曝光,显影.涂胶又分HMDS,Coat,Softbake三步显影分PEB,Develop,Hardbake三步

光刻胶与光阻是同一个意思吗?如果你说的是晶圆厂中所用的光刻胶,IwouldsayYes.

使用光刻胶的客户有哪些光刻胶有几种,起码分为正胶和负胶.要看你的是那种光刻胶,才能知道有哪些客户.一般都是半导体或者液晶行业还有一些科研机构会用到光刻胶.

哪里购买光刻胶?没人知道吗?..